EDX 8000H真空型X熒光光譜儀介紹

【資料簡(jiǎn)介】

EDX 8000H真空型X熒光光譜儀介紹

應(yīng)用領(lǐng)域

礦石分析、合金檢測(cè)、有害元素檢測(cè)（RoHS、鹵素）、全元素分析、鍍層測(cè)厚分析等。X 射線(xiàn)熒光光譜儀分析具有制樣簡(jiǎn)單、分析速度快、分析含量范圍寬、重現(xiàn)性好、準(zhǔn)確度高等優(yōu)點(diǎn)，隨著 X 射線(xiàn)熒光光譜分析技術(shù)的不斷推廣，利用 X 射線(xiàn)熒光光譜儀分析儀檢測(cè)已成為很多行業(yè)質(zhì)量控制的主要手段。

性能介紹

01技術(shù)參數(shù)

元素分析范圍 : 鈉（Na）~ 鈾（U）

分析元素含量范圍 :PPM~99.99%（不同材質(zhì)，分析范圍不同）

任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型

相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型

多變量非線(xiàn)性回歸程序

環(huán)境溫度 :15-30℃

同時(shí)分析元素 : 一次可同時(shí)分析幾十種元素

測(cè)試時(shí)間 :50-200s

電源 : 交流 220V±5v，建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源

能量分辨率 :129±5eV

樣品腔尺寸 :400*340*80mm

儀器尺寸：700*510*336mm

儀器重量：56kg

分析精度：0.05%（含量高于 96% 以上的精品，21 次測(cè)試穩(wěn)定性）

高真空系統(tǒng)、高分辨率SDD硅漂移數(shù)字多道型電制冷探測(cè)器

02性能優(yōu)勢(shì)

◆ 下照式：可滿(mǎn)足各種形狀和狀態(tài)的樣品測(cè)試需求，固體、液體、粉末都可進(jìn)行快速無(wú)損檢測(cè)

◆ 高分辨率電子制冷探測(cè)器：良好的能量線(xiàn)性、能量分辨率和能譜特性，最新數(shù)字多道技術(shù)，測(cè)試速度更快，測(cè)試精度更高

◆ 新一代高壓電源和 X 光管：高效超薄窗 X 光管，指標(biāo)達(dá)到國(guó)際水平，低能 X 射線(xiàn)激發(fā)待測(cè)樣品，對(duì)鋁硅、磷等輕元素激發(fā)效果更好

◆智能抽真空系統(tǒng)：屏蔽空氣的影響，大幅擴(kuò)展儀器測(cè)試范圍

分析方法

01有損分析光譜法

AAS、ICP、AFS 在前處理方面跟化學(xué)滴定法相差不多，都必須把樣品制成溶液，其對(duì)微量元素分析精度高，要求分析測(cè)試人員素質(zhì)高專(zhuān)業(yè)性強(qiáng)、測(cè)試時(shí)間短、人為誤差少等特點(diǎn)。用于實(shí)驗(yàn)室環(huán)境條件下。

02無(wú)損分析光譜法

X 熒光法應(yīng)用于材料分析的特點(diǎn)也很明顯，分析速度快、前處理簡(jiǎn)單，樣品無(wú)損、人為誤差小、分析范圍廣、低檢出限達(dá)到ppm 級(jí)等的特點(diǎn)，可以測(cè)液體、固體和粉末樣品。