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更新時(shí)間：2024-08-03 09:10:20瀏覽次數(shù)：235次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線一、無(wú)轉(zhuǎn)子硫化儀構(gòu)造與原理：1、機(jī)械部分：由外殼、上下模、1.7HZ擺動(dòng)機(jī)構(gòu)、測(cè)力傳感器組成；2、空氣控制系統(tǒng)：由開(kāi)合模的氣缸、電磁閥，門(mén)控系統(tǒng)和空壓機(jī)四部分組成；3、電控系統(tǒng)：由測(cè)溫系統(tǒng)和控溫系統(tǒng)組成；4、測(cè)試系統(tǒng)：主要由微處理器、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)獲取器、交流器、數(shù)據(jù)處理器、電機(jī)控制、報(bào)告打印機(jī)組成
一、無(wú)轉(zhuǎn)子硫化儀構(gòu)造與原理：
1、機(jī)械部分：由外殼、上下模、1.7HZ擺動(dòng)機(jī)構(gòu)、測(cè)力傳感器組成；
2、空氣控制系統(tǒng)：由開(kāi)合模的氣缸、電磁閥，門(mén)控系統(tǒng)和空壓機(jī)四部分組成；
3、電控系統(tǒng)：由測(cè)溫系統(tǒng)和控溫系統(tǒng)組成；
4、測(cè)試系統(tǒng)：主要由微處理器、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)獲取器、交流器、數(shù)據(jù)處理器、電機(jī)控制、報(bào)告打印機(jī)組成。
二、無(wú)轉(zhuǎn)子硫化儀技術(shù)規(guī)格：
1、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：ASTMD5289-95 ISO6502-1999（E） GB/T16584-1996
2、測(cè)溫范圍：室溫--200℃
3、測(cè)溫精度：100--200℃時(shí)，±0.01℃
4、控溫穩(wěn)定度：100--200℃時(shí)，±0.1℃
5、設(shè)定范圍：0--200℃；設(shè)定小單位：0.1℃
6、溫度顯示范圍：0--200℃；顯示分辨率：0.01℃
7、設(shè)定時(shí)間范圍：0--200分鐘；
8、自動(dòng)量程切換：根據(jù)實(shí)際力矩自動(dòng)增加和減少（5-20N.m）
9、扭矩顯示精度：0.001N.m
10、電源：～220V±10%，50±1Hz，必須要良好接地
11、壓縮空氣：0.4Mpa 由氣動(dòng)調(diào)節(jié)閥控制
12、擺動(dòng)頻率：100次/分鐘（約1.7HZ）
13、環(huán)境溫度：常溫--40℃，相對(duì)濕度＜80%（空氣中不含腐蝕性氣體）
14、質(zhì)量：約200kg 功率：1KW
15、外型尺寸約：650X650X1100（mm）
三、無(wú)轉(zhuǎn)子硫化儀數(shù)據(jù)處理要求：
繪制格式、曲線、參數(shù)如下
ML：小轉(zhuǎn)矩
MH：大轉(zhuǎn)矩
TS1（早期硫化時(shí)間、焦燒時(shí)間）：ML＋0.1Nm 即在ML的基礎(chǔ)上增加0.1N·m力矩時(shí)所對(duì)應(yīng)的時(shí)間，以分鐘計(jì)算。
TS2（早期硫化時(shí)間、焦燒時(shí)間）：ML＋0.2Nm 即在ML的基礎(chǔ)上增加0.2N·m力矩時(shí)所對(duì)應(yīng)的時(shí)間，以分鐘計(jì)算。
T10（初始硫化時(shí)間）：ML （MH-ML）×10% 既轉(zhuǎn)矩達(dá)到此值時(shí)所對(duì)應(yīng)的時(shí)間，以分鐘計(jì)算。
T30（能精確評(píng)定的硫化時(shí)間）：ML （MH-ML）×30% 既轉(zhuǎn)矩達(dá)到此值時(shí)所對(duì)應(yīng)的時(shí)間，以分鐘計(jì)算。
T50（能精確評(píng)定的硫化時(shí)間）：ML （MH-ML）×50% 既轉(zhuǎn)矩達(dá)到此值時(shí)所對(duì)應(yīng)的時(shí)間，以分鐘計(jì)算。
T70（能精確評(píng)定的硫化時(shí)間）：ML （MH-ML）×70% 既轉(zhuǎn)矩達(dá)到此值時(shí)所對(duì)應(yīng)的時(shí)間，以分鐘計(jì)算。
T90（經(jīng)常采用的佳硫化時(shí)間）：ML （MH-ML）×90% 既轉(zhuǎn)矩達(dá)到此值時(shí)所對(duì)應(yīng)的時(shí)間，以分鐘計(jì)算。
VC（硫化速度指數(shù)）：VC=100/（T90-TS1）
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