1. 超低溫情況下：
由于晶圓在超低溫情況下進(jìn)行探測，水氣將會(huì)出現(xiàn)并且將會(huì)凍結(jié)晶圓。水氣將會(huì)影響測量，導(dǎo)致測量失敗。真空倉中的水氣將通過真空泵排出，真空泵必須具備長時(shí)間測量的要求。
2. 高溫情況下：
當(dāng)晶圓加熱超過300攝氏度， 400攝氏度， 500攝氏度或者更高溫度時(shí)，會(huì)發(fā)生很強(qiáng)烈的氧化。溫度越高，越加大硅片表面的氧化，氧化將使晶圓降低電學(xué)性，物理性和機(jī)械性。真空倉中的氧氣通過真空泵來排出。真空泵必須能夠保持長時(shí)間的測量要求。
由于卡盤將被熱量所控制，應(yīng)用于超低溫和高溫的環(huán)境，在晶圓上探針由于晶圓的收縮和膨脹，將需要一定的改變位置。因此，一些探針將需要通過真空倉之外的探針座的三軸控制旋鈕重新定位。外部的機(jī)動(dòng)探針座可通過拉桿控制系統(tǒng)輕松地重新定位真空倉中的探針。
特點(diǎn)：
三種溫度范圍可選擇：
77K—480K (-196℃—200℃)
77K—780K (-196℃—500℃)
77K—1080K (-196℃—800℃)
所有框架采用焊接以保證堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)
通過外置探針座來控制探針重新定位
橋型結(jié)構(gòu)顯微鏡以方便打開真空倉
顯微鏡可通過鏡臺(tái)控制精確地移動(dòng)，X-Y軸移動(dòng)范圍 1英寸—1英寸
可升級(jí)到6個(gè)探針座
雙屏蔽chuck高低溫時(shí)達(dá)到10pA精度
可選擇防震桌
可選擇高真空倉
詳細(xì)說明：
卡盤直徑40mm
溫度的精度為0.1度
液氮瓶50升
探針座X-Y-Z三軸移動(dòng)范圍：25mmx25mmx25mm，精度10微米
顯微鏡X-Y軸移動(dòng)范圍：1英寸x1英寸
連續(xù)變焦：0.8X—5X
目鏡：20X
總放大倍數(shù)：16X—100X
150W燈源箱
雙分支鵝頸管燈源
規(guī)格：
尺寸：1300mm長x1100mm寬x1500mm高
重量：300Kg
配置：
電源：220V、60Hz、1500W
液氮：50升
氮?dú)夤?br>
操作說明：
1. 溫度控制單元：
當(dāng)需要溫度達(dá)到室溫以下時(shí)，卡盤需要通過液氮來降溫以達(dá)到溫度低于事先設(shè)置的溫度。比例積分微（PID）分控制器可以準(zhǔn)確的控制溫度來加熱卡盤中的熱敏器件。
2. 液氮單元
氮?dú)馐潜仨毜模ㄟ^氮?dú)饧訅赫婵掌縼硗苿?dòng)液氮的流出，液氮的容量可以通過氮?dú)獾膲簭?qiáng)、液氮的進(jìn)氣閥和出氣閥來控制。
3. 真空倉單元
真空倉可通過真空泵產(chǎn)生10-3 托的壓強(qiáng)提供給超低溫的應(yīng)用；
BNC母接頭用來連接探測設(shè)備的信號(hào)裝置；
真空泵可提供排氣過濾作用，以避免污染客戶的環(huán)境；
4. 探針座單元
所有探針座都在真空倉外設(shè)置，這將幫助工程師在真空組織下進(jìn)行探測時(shí)不用排出真空倉內(nèi)的氣體。特別是，當(dāng)溫度降低的時(shí)候，晶圓開始收縮，探針已經(jīng)離開需要探測的測試樣品，工程師需要重新設(shè)置探針，將探針扎到測試樣品上。
5. 顯微鏡單元：
顯微鏡可以通過橋梁結(jié)構(gòu)移動(dòng)到旁邊，以方便打開真空倉的蓋子。顯微鏡可以通過真空倉上面得窗口觀察，
燈光可以通過階梯式旋鈕控制亮度，雙分支鵝頸式光纖引導(dǎo)源可以用于定位及分離目標(biāo)。
環(huán)保在線