UV光催化廢氣凈化裝置-光氧催化設備

UV光催化廢氣凈化裝置通過具有一定能量的光照射,光敏半導體材料即被光激發出電子-空穴對，吸附在光敏半導體表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生電子或空穴,從而發生一系列的氧化還原反應，使污染物降解為二氧化碳和水等物質。未*裂解的小分子有機物及臭氧分子進入活性炭反應階段，氣固相開始接觸，有機分子與臭氧在活性炭的細孔中繼續氧化反應，達到*降解的目的，（在外加電場的作用下，介質放電產生大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發，然后便引發一系列復雜的物理、化學反應，使復雜的大分子污染物轉變為簡單小分子安全物質，從而使污染物降解為二氧化碳和水等物質。）

UV光催化廢氣凈化裝置特點

1、效率高，能去揮發性有機污染物，*能達標排放；

2、運行維護費用低

3、常壓下經行，故安全，無隱患；

4、對工況適應能力強

5、全自動PLC控制，操作方便。通過變頻調節，可滿足不同生產條件下使用，達到節能目的。

光催化氧化廢氣處理設備適用范圍

1、揮發性有機物的凈化處理。

2、烤漆房漆霧uv光解凈化、烤漆房漆霧uv高效光解、烤漆房uv光氧化廢氣處理、垃圾房uv光解除臭機。

3、涉及采油（氣）田、污水處理廠、垃圾處理場、煉油廠、塑料廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、家具廠、噴漆房、烤漆房等產生的多種高濃度惡臭氣體和工業廢氣治理工程。