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        產(chǎn)品|公司|采購|招標(biāo)

        廣電計量檢測集團股份有限公司

        小型等離子清洗機TS-PL05

        參考價面議
        具體成交價以合同協(xié)議為準
        • 公司名稱深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司
        • 品       牌
        • 型       號TS-PL05
        • 所  在  地
        • 廠商性質(zhì)其他
        • 更新時間2023/3/2 8:39:24
        • 訪問次數(shù)693
        產(chǎn)品標(biāo)簽:

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        深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早期一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動化設(shè)備等。公司現(xiàn)有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級研發(fā)工程師近40余人,售后服務(wù)25余人。 為適應(yīng)國內(nèi)外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國等離孑體硏究所,中囯等離子硏究所,囯內(nèi)外科硏機構(gòu),投入相當(dāng)大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機、等離子刻蝕機、等離子去膠機、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產(chǎn)品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場實踐及等離子新技術(shù)研究和應(yīng)用,成功的推動了我國低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和和氣、液、固態(tài)物質(zhì)的處理方面的發(fā)展。 憑借公司的強大研發(fā)實力,東信高科已成功申請多項技術(shù)。目前經(jīng)過近二十年的發(fā)展,公司產(chǎn)品先后經(jīng)過了四次升級換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團、愛普生電子、中國兵器集團、、中國、、東南大學(xué)光電實驗室、藍思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學(xué)、信利光電、德昌電機、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的設(shè)備供應(yīng)商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營理念,立足中國,面向,打造的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!
        產(chǎn)品介紹型號小型等離子清洗機TS-PL05腔體材質(zhì)316不銹鋼容量5L功率500W電源頻率40KHz/13
        小型等離子清洗機TS-PL05 產(chǎn)品信息

        產(chǎn)品介紹

        型號 小型等離子清洗機TS-PL05
        腔體材質(zhì) 316不銹鋼
        容量 5L
        功率 500W
        電源頻率 40KHz/13.56MHz可選
        腔體尺寸 直徑150*280
        外形尺寸(L*W*H) 660*700*600
        真空度 30pa-100pa
        氣體通道 兩路工作氣體O2、Ar等
        控制方式 人機界面

        小型等離子清洗機清洗原理:

        等離子清洗技術(shù)是一種高精密清洗技術(shù),其清洗原理是先產(chǎn)生真空,在真空狀態(tài)下,由于壓力的減小,增加了分子間間距,使得分子間力逐漸變小, 再利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將工藝氣體震蕩,使其成為具有一定反應(yīng)活性或高能量的離子, 通過這些離子與工件表面的有機污染物或微顆粒 污染物反應(yīng)或碰撞形成了揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達到表面清潔活化的目的。與溶劑清洗不同,等離子清洗的機理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活 化作用”達到去除物體表面污漬的目的。從清洗效果來說,等離子體清洗是所有清洗工藝中的剝離式的清洗

        小型等離子清洗機工藝氣體推薦:

        1)氬氣:物理轟擊是氬氣清洗的機理。氬氣是 的物理等離子體清洗氣體,原因在于它原子的尺寸大。可以用很大的力量轟擊樣品表面。正的氬離子將被吸引到負向電極板。撞擊力足以去除表面上的任何污垢。然后這些氣態(tài)污物通過真空泵排出。

        2)氧氣:化學(xué)工藝中等離子體與樣品表面上的化合物反應(yīng)。例如,有機污染物可以有效地用氧氣等離子去掉,這里氧氣等離子與污染物反應(yīng),產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水。一般地說,化學(xué)反應(yīng)清除有機污染物效果更好。

        3)氫氣:氫氣可供去除金屬表面氧化物使用。 它經(jīng)常與氬氣混合使用,以提高去除速度。一般人們擔(dān)心氫氣的易燃性,氫氣的使用量非常少。人們更大的擔(dān)心是氫氣的存儲。我們可以采用氫氣發(fā)生器從水中產(chǎn)生氫氣。從而去掉了潛在的危害性。

        4)CF4/SF6:氟化的氣體在半導(dǎo)體工業(yè)以及PWB (印制線路板)工業(yè)中應(yīng)用非常廣泛。在IC封裝中的應(yīng)用只有一種。這些氣體用在PADS工藝中,通過這種處理,氧化物轉(zhuǎn)化成氟氧化物,允許無流動焊接。

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