紫外臭氧清洗機（UVO）是一種簡單，經(jīng)濟(jì)，快速的材料表面清洗設(shè)備，只需把樣品放置到樣品盤上，關(guān)上艙門，設(shè)置時間，并按運行，就可以了，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得！
目前的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。
v 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE，對有機物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用，以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳?xì)浠衔铮@得超潔凈的表面。
v 表面UV光改質(zhì)：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷，光子作用產(chǎn)生原子氧會與被切斷的表層分子結(jié)合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。
紫外臭氧清洗機（UVO）主要應(yīng)用：
v 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
v 微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。
v 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。
v 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等。
v 科研過程的表面清洗及處理：半導(dǎo)體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學(xué)等。
